નીચેનામાંથી કઇ પદ્ધતિમાં ઉદ્દીપક વપરાતો નથી ?
હેબર પદ્ધતિ
થર્માઇટ પદ્ધતિ
ઓસવાલ્ડની પદ્ધતિ
સંપર્ક પદ્ધતિ
$B_2H_6$ માં $2-$ કેન્દ્ર $-2-$ ઇલેક્ટ્રોન અને $3-$ કેન્દ્ર $-2-$ ઇલેક્ટ્રોન બંધની સંખ્યા અનુક્રમે ..........
$Al$ ના ઓક્સાઇડ નું રિડક્શન રાસાયણકિ પ્રક્રિયાઓ વડે કરી શકાતું નથી. કારણ કે .......
એલ્યુમિનિયમ સાંદ્ર $HCl$ અને સાંદ્ર $NaOH$ સાથે પ્રક્રિયા કરીને અનુક્રમે ક્યા વાયુઓ મુક્ત કરશે ?
નીચે બે વિધાનો આપેલા છે. એક ને કથન $A$ વડે લેબલ કરેલ છે બીજાને કારણ $R$ વડે લેબલ કરેલ છે.
કથન $A$: $Ga, In$ અને $\mathrm{Tl}$ ની $+1$ ઓકિસડેશન અવસ્થા ના સ્થિરતા ક્રમ $\mathrm{Ga}<\mathrm{In}<\mathrm{Tl}$.
કારણ $R$: સમૂહમાં જેમ જેમ નીચે જઈએ તેમ નિષ્કિય યુગ્મ અસર નીચી ઓક્સિેેશન અવસ્થા ને સ્થિર કરે છે.
ઉપર્યુક્ત વિધાનોના સંદર્ભમાં નીચે આપેલા વિકલ્પોમાંથી સાચો ઉત્તર પસંદ કરો:
આપેલ પ્રક્રિયામાં $'X'$ સંબંધિત ખોટું નિવેદન કયું છે $B{F_3} + LiAl{H_4}\xrightarrow{{Ether}}\left( X \right) + LiF + Al{F_3}$